Čisticí pěna Madagascar Centella Ampoule
Jak snadno odlíčit make-up a zároveň vyčistit pleť? Odpovědí je krémová čisticí pěna SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam, která vám vaši večerní rutinu značně ulehčí. Zbavuje pleť veškerých nečistot, aniž by ji vysušovala, dodává hydrataci a zároveň podporuje regeneraci. Po použití je tvář krásně jemná, svěží a připravená na další krok péče.
Čisticí pěnu naneste na navlhčený obličej, napěňte a následně důkladně opláchněte.
Centella Asiatica Extract(33%), Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Water, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Butylene Glycol, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract
Skin1004 Co. Ltd
4 Floor, 8, Teheran-ro 2-gil, Gangnam-gu, Seoul, Korejská republika
EU: LEBENKO GmbH
Mart-Stam-strate 49, 60438, Frankfurt am Main, Germany